Ammonia_and_steel, очевидным это было бы если бы было упоминание про EUV. А так — просто громкий (кликбейтный) заголовок.
С тем же успехом можно было написать что-то типа: Мы первые в МИРЕ создали фоторезист в РФ.
Формально, никто из мировых патентодержателей, на территории РФ такой фоторезист не создавал, а значит заголовок условно правдив.
Вот только звучит он совсем иначе, с т.з. подаваемой читателю информации.
Нет, конечно, с однгой стороны я рад за Микрон. Полезное дело. Вот только, на сколько я понимаю, пока речь лишь о тестировании образцов, в виде экспериментов. А до массового применения еще как до луны пешком. До реальной постановки на поток дело может и не дойти. Поэтому хвастаться пока нечем.
Prophetic, Очевидно первый фоторезист для экстремального ультрафиолета (EUV). Смысл тот же, что и при изготовлении печатных плат с фоторезистом, но в технологии с каждым переходом при уменьшении размеров на порядок (мм-->мкм-->нм) меняется вообще каждый компонент в схеме(тип полимера, тип фотокислоты, источник излучения, тип травления).
galvanicrus.ru/pc_boards/history.php
1956 год. СССР.
Защитный рисунок на заготовках плат получали фотохимически, используя жидкие фоторезисты (их в то время называли фотоэмульсиями) на основе желатины, а позднее на основе поливинилового спирта (ПВС) (спирт поливиниловый 70-100% г/л, хромовокислый аммоний 10-15 г/л). Нанесение фоторезиста на заготовки плат, выравнивание его и подсушка, производилась вращением заготовок на центрифуге. Экспонирование изображения осуществлялось от ртутно-кварцевых ламп с использованием позитива при электрохимическом способе изготовления плат и негатива при способе вытравливания. Проявление изображения выполнялось в теплой воде.
судя по тому что падение отиграли взад не так уж и хороша модель
вообще есть дополна открытых моделей ии… проблема только в их обучении дорого и долго… более того проблема а на чем их учить? на всех текстовых источниках и картинках обучили…